日本AMAYA天谷柔性器件的環(huán)境壓力CVD系統(tǒng)玻璃基板沉積設(shè)備圖片

2025-03-12 07:43:4113

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圖片描述：

用于FPD等剛性/柔性器件的環(huán)境壓力CVD系統(tǒng)玻璃基板沉積設(shè)備低溫（150~300°C）處理形成高質(zhì)量的SiO2薄膜：低應(yīng)力、無等離子體損傷、小顆粒降低安裝和維護(hù)成本占地面積小，無需真空或等離子處理價格低廉日本AMAYA天谷

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